可用于130nm工艺国产高端光刻胶已量产：打破美日垄断!--

除了光刻机之外，先进半导体工艺还依赖光刻胶，这方面的供应也主要是靠美日等公司，如今国产光刻胶已经在部分领域取得突破，晶瑞电材日前透露他们的光刻胶已经可以用于0.25-0.13um工艺，也就是250-130nm工艺。

晶瑞电材13日在互动平台上表示，公司KrF高端光刻胶部分品种已量产。

子公司瑞红电子化学品股份有限公司的KrF光刻胶产品分辨率达到了 0.25~0.13mu;m 的技术要求，已通过部分重要客户测试，KrF高端光刻胶部分品种已量产。

公司子公司瑞红电子化学品股份有限公司凭借强大的研发实力和突出的产品优势，取得了下游客户的认证，开拓并维系了一大批国内外优质客户，构建了优质的业务平台并成功进入优秀客户的供应链。

据了解，晶瑞电材是国内最早从事光刻胶生产的企业之一，目前已经取得合肥长鑫、士兰微、扬杰科技、福顺微电子、中芯国际等国内企业的供货订单。

光刻胶有不同的技术类别，低端的中g线/i线光刻胶自给率约为20%，KrF光刻胶自给率不足5%，而高端的ArF光刻胶完全依赖进口，是国内半导体的卡脖子技术之一。